拓普思實驗室系統 2022-12-22
序號 |
測量方法 |
中國 |
國際ISO | 美國 | 英國 |
日本 |
1 |
顯微截面法 |
GB/T 6462 | ISO 1463 | ASTM B487 | BS5411-5 | JISH8680-1 |
2 |
質量損失法 |
GB/T 8014.2 |
ISO 2106 | ASTM B137 | BS6161-1 |
JISH8688 |
3 |
渦流法 | GB/T 4957 | ISO 2360 | ASTM B244 | BS5411-3 |
JISH8680-2 |
δa=10-4W/(A·d)
式中δa為陽極氧化膜厚度,μm;W為去除的陽極氧化膜重量,g,即質量損失值;A為待測位置陽極氧化膜的表面積,cm2;d為陽極氧化膜的密度,g/cm3,也稱表觀密度。 對于非封孔的鋁陽極氧化膜,其密度通常取2.4g/cm3,封孔膜的密度取2.6g/cm3。由于這個陽極氧化膜的密度數據為近似值,為此本方法-般也只能得出平均膜厚的近似值。如果可以具體測定或查表得到該陽極氧化膜本身的真實密度,這樣計算得到的膜厚值才更加接近于真實值。 質量損失法是陽極氧化膜厚度低于5μm時的仲裁方法。質量損失法的磷鉻酸腐蝕脫膜水溶液成分為:在1L水溶液中,磷酸H3PO4(ρ=1.7g/ml)35ml/L(或加倍為70m/L),鉻酐CrO3(AR)20g/L(或相應加倍為40g/L)。在溫度為85~100C時,該脫膜溶液可以很快去除鋁陽極氧化膜而不會損傷鋁基體。脫膜的時間視膜厚而定,-般控制在1~10min以內,如果膜很厚則脫膜時間可能接近10min。在脫膜溶液中,磷酸是腐蝕性成分,而鉻酸(酐)是緩蝕性成分,控制它們之間的合適比例十分重要。在含鎂高、含銅高或含鋅高的鋁合金脫膜時,常??梢赃m當提高鉻酐的含量以降低其腐蝕性,甚至推薦磷酸(ρ=1.7g/ml)20ml/L與鉻酸200g/L溶液,用于高鎂、高銅或高鋅的鋁合金薄陽極氧化膜的去除比較合適。 質量損失法的操作步驟是:①測量并計算出陽極氧化試樣待測表面的面積;②稱重(精確至0.01mg)至恒重為止,操作應符合分析化學測量的要求;③試樣置于磷鉻酸試驗溶液中浸泡10min;④取出試樣用去離子水清洗干凈,干燥后再稱重。兩次稱重的差值就是質量損失值(也稱失重值),如此操作需要重復浸泡和稱量,直至得到準確的質量損失值為止。具體操作可參見表1中序號2方法的各國標準的有關條文規定。 質量損失法測定中應當注意的事項是:①待測試樣的面積需要大于1000mm2;②非有效測量面上的陽極氧化膜可以預先設法除去,或預先用電工PVC塑料膠帶進行掩蔽保護;③鋁試樣不得與其它金屬接觸,脫膜容器宜選擇玻璃或不銹鋼材料制成,以玻璃容器為脫膜容器之首選;④重金屬離子不得污染磷鉻酸脫膜的腐蝕溶液,因為存在重金屬離子會加速引起鋁基體的腐蝕;⑤1L脫膜溶液溶解大約12g陽極氧化膜之后,一般應該棄用并重新配置腐蝕溶液。 (3)渦流測厚法 渦流測厚法是工廠最常用的、非常方便的在線非破壞性的無損快速測量方法,特別適用于生產現場、銷售現場和施工現場的快速無損膜厚監測。渦流測厚儀器本身的品質是保證測量精確度和重復性的關鍵因素,購置之前應該充分了解儀器的性能和精度,使用之前應該熟讀儀器所附的說明書。渦流測厚儀適用于在非磁性金屬上的非導電膜(絕緣膜)的厚度測量,因此作為鋁合金陽極氧化膜厚度的快速測量非常合適和方便,但是一般不能用于很薄的鋁合金化學轉化膜的厚度測量。渦流測厚法的原理是:置于氧化膜上的測量探頭中安裝高頻交流線圈產生的高頻電磁場,使絕緣膜下非磁性金屬導體產生一個渦流值,這個渦流值的大小是與膜的厚度定量相關的?;谶@個事實,在選擇的高頻下,膜厚δ與電容值C成反比的函數關系:??????C=Aε/(4πδ)
式中,δ為陽極氧化膜厚度,μm;A為氧化膜的表面積,cm2;ε為氧化膜的介電常數。 當渦流測厚儀的探頭置于鋁陽極氧化膜的表面時,一.般可以在儀器面板上直接讀出探頭與金屬鋁基體之間的距離,這個距離就是非導電性的絕緣陽極氧化膜厚度的數值。儀器讀數的準確性直接與零點校準(采用沒有氧化膜的同–鋁合金進行校準)和標準膜厚標定(采用標準厚度片標定)有明顯關系,因此渦流測厚儀在每次測量之前必須進行零點校準和膜厚標定,這是一項不可缺少的測量步驟。渦流測厚儀不能測量非常薄的氧化膜,而只適用于測定厚度為5μm以上的陽極氧化膜。在測量中還必須注意試樣測量面的平面度和平整度,以保證測量的可靠性和精確度。目前渦流測厚儀已經使用了接近半個世紀,現代渦流測厚儀在防止零點漂移和提高測量精度方面已經有了很大的改進和提高,因此選擇高精度渦流測厚儀是維持高精度檢測的前提。 渦流測厚儀測量陽極氧化膜的厚度,應該注意各種因素對于測量精度的影響。這些影響因素有膜的厚度、基體金屬的厚度、表面粗糙度、試樣曲率、試樣變形度、測試位置和施加探頭的壓力、表面附著污染物、環境溫度等。為此在測量操作時,應該將探頭平穩、垂直地置于清潔干燥的待測試樣表面,探頭施加的壓力盡可能保持恒定。試樣的被測量的位置應該在平面上,盡可能符合測試目的和要求,試樣如有一定曲率需要使用專用于有曲率平面的探頭。另外試樣不得變形,膜的厚度應該在儀器的測量范圍內。操作時一-般應該進行多次測量而取其平均值。 特別需要再次指出的是,為了保證測量精度,每次厚度測量前,都要對沒有陽極氧化膜的鋁合金基體進行零點校準,然后使用標準膜厚檢測片進行多點膜厚標定。